特許
J-GLOBAL ID:200903043970551766
感放射線性酸発生剤、オニウム塩化合物およびポジ型感放射線性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-423516
公開番号(公開出願番号):特開2005-104956
出願日: 2003年12月19日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 保存安定性およびパターン形状に優れ、高感度で高解像度の感放射線性樹脂組成物に使用される(フォトレジスト用)感放射線性酸発生剤、該感放射線性酸発生剤に好適なオニウム塩化合物、および該感放射線性酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性酸発生剤は、カチオン部分が一般式(1)で表されるオニウム塩化合物を含有する。 【化1】〔式中、AはIまたはS、mは1以上の整数、nは0以上の整数、xは1〜15の整数、Ar1 およびAr2 は1価の(置換)芳香族炭化水素基等示し、Rは(置換)アルキル基、1価の(置換)脂環式炭化水素基等を示す。〕 オニウム塩化合物は、カチオン部分が一般式(1)で表され、式中のRが(置換)脂環式炭化水素基である化合物からなる。 ポジ型感放射線性樹脂組成物は、(A)該感放射線性酸発生剤および(B)酸解離性基含有樹脂を含有する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
カチオン部分が下記一般式(1)で表されるオニウム塩化合物を少なくとも1種含有することを特徴とするフォトレジスト用感放射線性酸発生剤。
IPC (8件):
C07C381/12
, C07D317/72
, C07D319/14
, C07D333/46
, C07D493/04
, G03F7/004
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (9件):
C07C381/12
, C07D317/72
, C07D319/14
, C07D333/46
, C07D493/04 101
, G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (24件):
2H025AA01
, 2H025AA11
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CA48
, 2H025CC20
, 4C022FA02
, 4C071AA01
, 4C071AA07
, 4C071BB01
, 4C071CC13
, 4C071DD06
, 4C071EE05
, 4C071FF15
, 4C071GG04
, 4C071JJ01
, 4C071LL05
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB92
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
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Journal fuer Praktische Chemie, 1912, 85, p.198-207
審査官引用 (2件)
-
Journal fuer Praktische Chemie, 1912, 85, p.198-207
-
Journal fuer Praktische Chemie, 1912, 85, p.198-207
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