特許
J-GLOBAL ID:200903043993642696

位相変調型干渉法を用いた動的光散乱測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-359517
公開番号(公開出願番号):特開2005-121600
出願日: 2003年10月20日
公開日(公表日): 2005年05月12日
要約:
【課題】多重散乱スペクトルの光路長依存性を明らかにし、もって高濃度の媒質からの散乱光に基づいて、媒質の動的特性を良好な精度で測定することのできる位相変調型干渉法を用いた動的光散乱測定装置を提供する。 【解決手段】低コヒーレンス光源2からの光を分割する光カプラー5と、光カプラー5によって分割された一方の光を試料媒質9に照射する集光レンズ10と、光カプラー5によって分割された他方の光の位相を変調する位相変調器7,8と、位相変調された参照光と、試料媒質9から出射された散乱光との干渉光のスペクトルを測定するスペクトル測定器12と、スペクトル測定器12によって測定された干渉光スペクトルに現われる、前記位相変調信号の基本周波数に対応する1次のスペクトル又はその2倍、3倍等の周波数に対応する高次のスペクトルに基づいて粒子の動的光散乱測定を行う解析手段とを備え、試料媒質内の光路長sを、粒子の平均自由行程Lで規格化した量s/Lを3以下としている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
試料媒質中の粒子の動的光散乱測定をする装置であって、 低コヒーレンス光源と、低コヒーレンス光源からの光を分割する光路分割手段と、光路分割手段によって分割された一方の光を試料媒質に照射する照射手段と、光路分割手段によって分割された他方の光に対して位相を変調する位相変調手段と、位相変調された参照光と、試料媒質から出射された散乱光との干渉光のスペクトルを測定するスペクトル測定手段と、スペクトル測定手段によって測定された干渉光スペクトルに現われる、前記位相変調信号の基本周波数に対応する1次のスペクトル又はその2倍、3倍等の周波数に対応する高次のスペクトルのうちいずれか少なくとも1つの次数のスペクトルに基づいて粒子の動的光散乱測定を行う解析手段とを備え、 前記試料媒質内の光路長sを粒子の平均自由行程Lで規格化した量s/Lが3以下となるように設定されていることを特徴とする、位相変調型干渉法を用いた動的光散乱測定装置。
IPC (3件):
G01N21/27 ,  G01N15/00 ,  G01N21/45
FI (3件):
G01N21/27 H ,  G01N15/00 A ,  G01N21/45 A
Fターム (15件):
2G059AA02 ,  2G059BB06 ,  2G059BB09 ,  2G059CC19 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF09 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)
引用文献:
前のページに戻る