特許
J-GLOBAL ID：200903044005325806

加熱処理装置

発明者：
磧本 栄一

磧本 栄一 について

, 
田上 光広

田上 光広 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216746
公開番号（公開出願番号）：特開2000-146444
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 揮発した溶剤が装置外へ漏れることがない加熱処理装置を提供すること。【解決手段】 排気孔38は、ホットプレート31上の第1の領域?@ばかりでなく、この第1の領域?@を取り囲む第2の領域?Aまで及ぶ大きさにされ、その入口には多数の透孔39を有する板状部材40が配置されている。そして、第1の領域?@及び第2の領域?Aの排気を行い、しかも加熱処理を行っていないときにも排気を行っている。
請求項（抜粋）：
被処理体が載置され加熱される第1の領域を有する加熱処理領域と、前記第1の領域及びこの第1の領域を取り囲む第2の領域と対面するように設けられた排気孔を有する排気カバーと、前記排気孔を介して前記第1及び第2の領域の排気を行う排気手段とを具備することを特徴とする加熱処理装置。
IPC (3件)：
F26B 21/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501
FI (3件)：
F26B 21/00 H ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 567
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-159860   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (1件)
  • 基板熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-159860   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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