特許

J-GLOBAL ID：200903044015124574

リソグラフィ投影装置及び前記装置で使用する微粒子バリヤ

発明者： レヴィヌス ピエテル バッケル ,  フランク イェローン ピエテル シュールマンス ,  ヴァディ厶 イェブゲニーヴィチ バニン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-336475
公開番号（公開出願番号）：特開2004-165639
出願日： 2003年08月21日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】EUVによって放出され、光軸に沿って伝搬する微粒子の数を減らすこと、又はこのような微粒子を排除すること。【解決手段】本発明は、フォイル・トラップを有する、EUVリソグラフィのためのリソグラフィ投影装置である。このフォイル・トラップは、EUV放射を妨害することなく通過させるために、EUV源の背後に開放構造を形成する。フォイル・トラップは、光軸回りに回転可能に構成されている。フォイル・トラップを回転させることによって、EUV放射の伝搬方向を横切る衝撃をEUVビーム中に存在する破片上に伝達することができる。この破片はフォイル・トラップを通過することはない。このようにして、フォイル・トラップ下流側の光学構成要素上の破片の量を減らす。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

放射源(6)によって放出される放射から、放射の投影ビーム(6’)を形成する放射システム(3、4)と、 投影ビームによって照射され、前記投影ビームをパターン形成するパターン形成手段を保持するように構成した支持構造(15)と、 基板を保持するように構成した基板テーブル(20)と、 パターン形成手段の照射部分を基板の標的部分上に描画するように構成かつ配置した投影システム(5)と、 放射源(6)から発する材料が光軸(O)に沿って伝搬するのを防止するための、放射源(6)近傍のチャンネル手段(9、43)とを備え、チャンネル手段(43)が、中心(44)と、光軸(O)を横切る幅方向及び光軸(O)の方向に概ね延長する長さ方向を有する幾つかの細長いチャンネル(41)とを備える、リソグラフィ投影装置であって、 チャンネル手段(43)が光軸(O)回りに回転可能であり、リソグラフィ投影装置が、チャンネル手段(43)に連結した、チャンネル手段(43)を光軸(O)回りに回転する駆動手段(46)を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 503G ,  H01L21/30 517

Fターム (4件)：

5F046AA22 ,  5F046GA07 ,  5F046GB09 ,  5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-205319   出願人：キヤノン株式会社
• 透明構造を持つ真空チャンバー壁を有する照明システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-554787   出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
• 特開昭9-320792