特許
J-GLOBAL ID：200903044025095645
非線形光デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-075448
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271821
出願日： 1998年03月24日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 比較的簡単な方法により非線形光デバイスを高精度に製造できる非線形光デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】 本発明においては、基板(11)上に潜在的に非線形光学効果を有する高分子膜(13)を形成する。その後、ポーリング処理を行い高分子膜(13)を非線形光学効果を有する高分子膜に変換する。次に、この高分子膜に選択的に電子線を照射して、非線形光学効果を選択的に除去する。この結果、基板上には非線形光学効果を有する区域と等方性の光学特性を有する区域とが形成され、これらの区域を利用して非線形光デバイスを実現する。電子線照射は、高解像度を有しているので、微細な光デバイスでも高精度に製造することができる。
請求項（抜粋）：
基板上に非線形光デバイスを形成するに際し、基板上に、非線形光学効果を潜在的に有する高分子膜を形成する工程と、前記高分子膜を、そのガラス転移点付近まで加熱し、電界配向処理を行って非線形光学効果を有する高分子膜に変換する工程と、前記非線形光学効果を有する高分子膜に電子線を選択的に照射し、電子線が照射された区域の高分子膜を等方性光学材料に変換する工程とを具え、基板上に、非線形光学効果を有する区域と光学的に等方性の区域の両方を形成することにより非線形光デバイスを製造することを特徴とする非線形光デバイスの製造方法。
引用特許：
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