特許
J-GLOBAL ID：200903044076007880
処理装置のガス導入方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-143781
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342737
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 シャワーヘッド部内でパーティクル発生の原因となる2種類のガスが接触して反応することを防止することが可能な処理装置のガス導入方法を提供する。【解決手段】 被処理体Wに対して所定の処理を施すための処理空間Sを有する処理容器4と、原料ガスと還元ガスとを分離区画された異なる拡散室10A、10Bにそれぞれ別々に同時に、或いは異なるタイミングで導入して拡散させて前記各ガスを前記処理空間へ供給するようにしたシャワーヘッド部8と、を有する処理装置のガス導入方法において、前記原料ガスと前記還元ガスのガス種と前記拡散室との組み合わせの内、前記還元ガスが供給される拡散室の圧力と前記原料ガスが供給される拡散室の圧力との差圧がより大きくなるような組み合わせが選択されて前記各ガスがそれぞれ供給されるようにする。これにより、逆拡散により一方のガスが他方のガスの拡散室側へ侵入することを最も効果的に抑制する。
請求項（抜粋）：
被処理体に対して所定の処理を施すための処理空間を有する処理容器と、原料ガスと還元ガスとを分離区画された異なる拡散室にそれぞれ別々に同時に、或いは異なるタイミングで導入して拡散させて前記各ガスを前記処理空間へ供給するようにしたシャワーヘッド部と、を有する処理装置のガス導入方法において、前記原料ガスと前記還元ガスのガス種と前記拡散室との組み合わせの内、前記還元ガスが供給される拡散室の圧力と前記原料ガスが供給される拡散室の圧力との差圧がより大きくなるような組み合わせが選択されて前記各ガスがそれぞれ供給されるようにしたことを特徴とする処理装置のガス導入方法。
Fターム (12件)：
4K030AA03
, 4K030AA13
, 4K030AA16
, 4K030BA18
, 4K030BA38
, 4K030CA04
, 4K030EA04
, 4K030JA01
, 4K030JA05
, 4K030JA09
, 4K030KA17
, 4K030LA15
