特許
J-GLOBAL ID:200903044109294708

異物検査除去装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 堀 城之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-312660
公開番号(公開出願番号):特開平11-135409
出願日: 1997年10月29日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、ペリクルの薄膜を貼った場合においてもペリクルを破損せずにレチクルの表裏面に付着した塵埃を除去する方法を提供することを目的とする。【解決手段】 異物検査除去装置は、縮小投影露光装置に設けられている。図1に示すようにレチクルR(ペリクル)の異物検査装置(1)と、異物検査に結果を表示するディスプレイ装置や印刷装置等の出力装置と、異物の付着が認められた場合の異物除去装置(2)とを備えている。
請求項(抜粋):
半導体基板上にレチクルパターンを転写する際、レチクルに付着した塵埃その他の異物を除去する異物検査除去装置であって、前記レチクルに異物が付着しているか否かを検査する異物検査装置と、該異物検査装置にて検査不合格となった場合、異物の付着部にエアーを吹き付けることにより異物を吹き飛ばす異物除去装置とを備えたことを特徴とする異物検査除去装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/14
FI (4件):
H01L 21/30 503 G ,  G01N 21/88 E ,  G03F 1/08 S ,  G03F 1/14 J
引用特許:
審査官引用 (5件)
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