特許
J-GLOBAL ID:200903044111919120
ヒドロキシアパタイト粒子、ヒドロキシアパタイト粒子分散物、及びこれらを用いたヒドロキシアパタイト膜の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-250112
公開番号(公開出願番号):特開2008-069048
出願日: 2006年09月14日
公開日(公表日): 2008年03月27日
要約:
【課題】ナノオーダーの粒子サイズを有するヒドロキシアパタイト粒子、特に、レーザー光の照射により粒子同士が容易に融合可能であり、該融合後の強度が高く、う蝕治療に好適に使用可能なヒドロキシアパタイト粒子、該ヒドロキシアパタイト粒子を含有するヒドロキシアパタイト粒子分散物、及びこれらを用いた高強度のヒドロキシアパタイト膜の製造方法、並びに、該ヒドロキシアパタイト膜の製造方法に好適に使用可能なレーザー照射装置の提供。【解決手段】本発明のヒドロキシアパタイト粒子は、体積平均粒径が1〜25nmである。本発明のヒドロキシアパタイト粒子分散物は、本発明の前記ヒドロキシアパタイト粒子が溶媒中に分散されてなる。本発明のヒドロキシアパタイト膜の製造方法は、本発明の前記ヒドロキシアパタイト粒子乃至本発明の前記ヒドロキシアパタイト粒子分散物に、レーザー光を照射することを少なくとも含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
体積平均粒径が、1〜25nmであることを特徴とするヒドロキシアパタイト粒子。
IPC (2件):
FI (3件):
C01B25/32 P
, C01B25/32 W
, A61K6/033
Fターム (3件):
4C089AA02
, 4C089BA03
, 4C089BB08
引用特許:
前のページに戻る