特許
J-GLOBAL ID:200903044114508066
超紫外放射によってフォトリソグラフィーを行うための方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-525852
公開番号(公開出願番号):特表2007-504672
出願日: 2004年09月01日
公開日(公表日): 2007年03月01日
要約:
本発明は、複数のレーザーによる励起に起因するような超紫外放射源を使用することにより、超紫外放射によってフォトリソグラフィーを行うための方法および装置に関するものである。フォトエッチングされる対象物は、照射ウィンドウの背後において、変位を受ける。放射は、N回にわたっての連続した放射とされ、各放射の表面エネルギーが測定される。特に、各レーザーは、所定の持続時間を有した1量子分のエネルギーを放出する。N-1回分のパルスによって対象物が受領した放射の表面エネルギーを積算し、これにより、第n回目のパルス放射に供される。感光性対象物は、照射ウィンドウの幅の1/Nに等しい距離の分だけ、変位を受ける。
請求項(抜粋):
超紫外放射によってフォトリソグラフィーを行うための方法であって、
-リソグラフィーすべき対象物(OBJ)を、光放射に対して直交して配置された平面を有したものとし、さらに、その平面を、フォトレジスト領域(PR)を有したものとし、さらに、前記対象物を、前記放射(23)に対して横方向に移動可能(41)なものとし;
-エッチングを行う前記放射(23)を、超紫外領域に属する少なくとも1つのラインを有したものとし、前記放射を、N回にわたるパルスとし、各パルスに関して、照射ウィンドウ(40)を通しての、単位断面積あたりのエネルギー強度を測定し;
-前記パルスを、複数のパルス型レーザー源(10〜19)のうちの選択されたいくつかのものから出力された少なくとも2つのレーザービームを適切なターゲット(21)上へと衝撃させることによって、生成し、その場合、各レーザー源を、所定持続時間(Δt)にわたる1量子分のエネルギー(Q)を生成するものとし、それらレーザー源を、前記ターゲット上の同一箇所に対して焦点合わせし;
このような方法において、
以下のステップa)〜g)を反復的に繰り返し、この場合、前記ステップa)〜g)を、第n回目に関して規定するならば、
a)先行するN-1回にわたるパルス照射時に前記照射ウィンドウを通して通過した超紫外放射に関する単位断面積あたりのエネルギー強度の合計値を計算し;
b)隣り合った2つの放射パルスの間のインターバル時に、前記照射ウィンドウの幅(L)の1/Nに等しい距離の分だけ、移動方向に沿って、前記感光性対象物を移動させ;
c)フォトエッチングプロセスのために必要な総エネルギー量(Wtot )から、前記ステップa)において計算した前記合計値を、引き算し;
d)前記総エネルギー量(Wtot )に到達するために供給すべき残りのエネルギー量を決定し;
e)第n回目のパルスとして生成すべき残りのパルス量子数を計算し;
f)点火すべきレーザー源の数を決定するとともに、この数の整数部分に等しい数のレーザー源を選択し;
g)前記ステップf)において選択されたすべてのレーザー源を同時にトリガーし;
これらステップa)〜g)を、次なるポイントに関して繰り返すことを特徴とする方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G21K 1/00
, G21K 5/02
FI (4件):
H01L21/30 531S
, H01L21/30 531A
, G21K1/00 X
, G21K5/02 X
Fターム (3件):
5F046GA04
, 5F046GA14
, 5F046GC03
引用特許:
出願人引用 (5件)
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欧州特許出願公開第1 222 842号明細書
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国際公開第02/32197号パンフレット
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仏国特許出願公開第2 814 599号明細書
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米国特許第4,804,978号明細書
-
米国特許第6,034,978号明細書
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審査官引用 (2件)
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