特許
J-GLOBAL ID:200903044128142536

液晶表示装置の透明電極膜加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉井 剛 ,  吉井 雅栄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-121706
公開番号(公開出願番号):特開2008-276057
出願日: 2007年05月02日
公開日(公表日): 2008年11月13日
要約:
【課題】液晶表示装置の透明電極膜の一部にこれまでになく簡単且つ良好に絶縁部を形成できる画期的な技術を提供する。【解決手段】両面に透明電極膜2を積層した液晶層1を一対の絶縁性基板3(プラスチックフィルムなど)で挟んだ多層構造を有し、前記液晶層1の両面の透明電極膜2間に電圧を印加することでこの透明電極膜2間に介存する前記液晶層1の液晶分子1aを配向する液晶表示装置の前記透明電極膜2を加工する方法において、前記絶縁性基板3に比して前記透明電極膜2に対する透過率が低いレーザ4を、前記一対の絶縁性基板3間に介存する透明電極膜2に向けて照射し、このレーザ4により、前記絶縁性基板3をレーザ切断することなく前記透明電極膜2に電気的に絶縁性を有するレーザ照射加工痕を形成して、この透明電極膜2の一部に絶縁部5を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
両面に透明電極膜を積層した液晶層をプラスチックフィルムやガラス基板などから成る一対の絶縁性基板で挟んだ多層構造を有し、前記液晶層の両面の透明電極膜間に電圧を印加することでこの透明電極膜間に介存する前記液晶層の液晶分子を配向する液晶表示装置の前記透明電極膜を加工する方法において、前記一対の絶縁性基板間に介存する透明電極膜に向けてレーザを照射し、このレーザにより、前記絶縁性基板をレーザ切断することなく前記透明電極膜に電気的に絶縁性を有するレーザ照射加工痕を形成して、この透明電極膜の一部に絶縁部を形成することを特徴とする液晶表示装置の透明電極膜加工方法。
IPC (4件):
G02F 1/134 ,  G02F 1/13 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/04
FI (5件):
G02F1/1343 ,  G02F1/13 101 ,  B23K26/00 C ,  B23K26/00 H ,  B23K26/04 C
Fターム (15件):
2H088FA15 ,  2H088FA23 ,  2H088FA30 ,  2H088HA02 ,  2H088MA20 ,  2H092HA04 ,  2H092MA12 ,  2H092MA35 ,  2H092MA47 ,  2H092NA27 ,  4E068AC01 ,  4E068CA04 ,  4E068CA11 ,  4E068DA09 ,  4E068DB11
引用特許:
出願人引用 (1件)

前のページに戻る