イオン化装置および微小領域分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-023548
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264043
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】質量分析装置を用いて微小領域における分析を高い分解能で行うためのイオン化装置、イオン化方法、質量分析装置および微小領域分析装置を提供する。【解決手段】レーザー放射手段と、前記レーザー放射手段から放射されたレーザーが入射されて近接場光を発生させる近接場光発生手段とを備え、前記近接場光発生手段から発生した近接場光をマトリクスに照射することにより、マトリクスと混合された試料をイオン化するイオン化装置を用いる。または、レーザー放射手段と、前記レーザー放射手段から放射されたレーザーを誘導する光ファイバーと、前記光ファイバーの先端に接続されたレーザー照射プローブとを備え、前記レーザー照射プローブから放射されたレーザーをマトリクスに照射することにより、マトリクスと混合された試料をイオン化するイオン化装置を用いる。さらにこのイオン化装置を質量分析装置と組み合わせることにより、微小領域分析装置を得る。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザー放射手段と、前記レーザー放射手段から放射されたレーザーが入射されて近接場光を発生させる近接場光発生手段とを備え、前記近接場光発生手段から発生した近接場光をマトリクスに照射することにより、マトリクスと混合された試料をイオン化するイオン化装置。

IPC (3件)：

G01N27/64 , G01N27/62 , H01J49/16

FI (3件)：

G01N27/64 B , G01N27/62 V , H01J49/16

Fターム (2件)：

5C038GG07 , 5C038GH10

引用特許：

審査官引用 (3件)

MALDI分析の方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-514750 出願人：シークエノム・インコーポレーテツド
特開平3-089160
微細表面観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-256817 出願人：セイコー電子工業株式会社, 藤平正道

引用文献：

審査官引用 (2件)

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