特許
J-GLOBAL ID:200903044143248111
蒸発器及び化学蒸着装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-232426
公開番号(公開出願番号):特開平10-183352
出願日: 1997年08月28日
公開日(公表日): 1998年07月14日
要約:
【要約】【課題】 質の高く商業的に実行可能なCVDプロセスを保持するためにほぼ均質な分子組成を有する十分な量のガス前駆物質を効率的に製造することを目的とする。【解決手段】 蒸発器100であって、蒸発器本体102と、前記蒸発器本体内に配置された蒸発チャンバ302であって、前記蒸発チャンバに隣接する前記蒸発器本体の内側面に表面被覆が形成されており、前記表面被覆は、ポリテトラフルオロエチレンと、ポリテトラフルオロエチレンの共重合体と、窒化チタンとからなる集合から選択された材料からなる、前記蒸発チャンバ302と、キャリアガス入口510と、液体前駆物質入口512と、前記蒸発チャンバに対する開口部412とを備えた噴霧装置と、前記蒸発器本体を通して前記蒸発チャンバから延在する蒸発出口108とを有する。
請求項(抜粋):
蒸発器であって、蒸発器本体と、前記蒸発器本体内に配置された蒸発チャンバであって、前記蒸発チャンバに隣接する前記蒸発器本体の内側面に表面被覆が形成されており、前記表面被覆は、ポリテトラフルオロエチレンと、ポリテトラフルオロエチレンの共重合体と、窒化チタンとからなる集合から選択された材料からなる、前記蒸発チャンバと、キャリアガス入口と、液体前駆物質入口と、前記蒸発チャンバに対する開口部とを備えた噴霧装置と、前記蒸発器本体を通して前記蒸発チャンバから延在する蒸発出口とを有することを特徴とする蒸発器。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C 16/44 C
, B01J 7/00 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特表平4-502305
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特開昭62-078188
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TiN膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-042559
出願人:日本電気株式会社
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