特許
J-GLOBAL ID：200903044211349215
露光用マスク、露光マスク用基板及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-048301
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083034
出願日： 1993年03月09日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ごみの付着や欠陥の発生を招くことなく複数の半透明膜を容易に形成することができ、工程の簡略化をはかり得、高精度の露光マスクを提供することを目的とする。【構成】 本発明では、透光性基板上にマスクパタ-ンを形成した露光用マスクにおいて、マスクパタ-ンは、露光光に対する光路長が透光性基板10の透明部分とは所定量だけ異なるように構成された半透明膜パタ-ンを含み、且つこの半透明膜パタ-ンは同一の元素(Si)を含む組成の異なるSi層11とSi3 N4 層12を、それぞれ最適な膜厚に積層して形成されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透光性基板上にマスクパタ-ンを形成した露光用マスクにおいて、前記マスクパタ-ンは、露光光に対する光路長が前記透光性基板の透明部分とは所定量だけ異なるように構成された半透明膜パタ-ンを含み、且つこの半透明膜パタ-ンは同一の元素を含む組成の異なる層を積層して形成されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
