描画記録装置およびその方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-229042
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045775
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】XYステージを用いて、高精度な任意形状の情報マークをスパイラル状、若しくは同心円状等に記録できる描画記録装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】本発明は、描画軌道を生成する軌道発生手段から移動目標位置を順次発生させ、スパイラル状、及び同心円状にXYステージを追従移動させる手段と、そのXYステージの現在位置を高精度に測長する手段と、XYステージの現在位置と描画目標位置との誤差を補正する手段と、描画目標位置の変化に追従して電子ビームの偏向方向、及び偏向量をリアルタイムで制御する手段を設けた。

請求項（抜粋）：

描画する基板を載置したXYステージと、前記XYステージを直交する2方向で計測する測長計と、電子ビームを発生させる電子ビーム発生手段、該電子ビーム発生手段で発生した電子ビームを絞るコンデンサレンズ、該コンデンサレンズで絞られた電子ビームを偏向する電子ビーム偏向手段、および前記コンデンサレンズで絞られた電子ビームを更に絞り込む対物レンズから構成され、情報マークの幅よりも小さな径に絞られた電子ビームを前記基板に照射する電子光学系と、前記XYステージを駆動して前記基板をスパイラル状、同心円状あるいは直線状に連続的に移動させるXYステージ駆動制御部とを備え、該XYステージ駆動制御部により基板をスパイラル状、同心円状若しくは直線状に連続的に移動させた状態で、前記電子光学系で絞られた電子ビームを前記電子ビーム偏向手段で偏向させてスパイラル状、同心円状若しくは直線状に配列された情報マークを描画するように構成したことを特徴とする描画記録装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , H01J 37/147 , H01J 37/20

FI (5件)：

G03F 7/20 504 , H01J 37/147 C , H01J 37/20 D , H01L 21/30 541 J , H01L 21/30 541 D

Fターム (12件)：

2H097CA16 , 2H097GB04 , 2H097LA20 , 5C001AA03 , 5C001AA06 , 5C001CC06 , 5C033GG03 , 5C033GG05 , 5F056AA02 , 5F056AA20 , 5F056CB15 , 5F056CB22

引用特許：

出願人引用 (2件)

電子ビーム露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-320253 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-250614

審査官引用 (2件)

電子ビーム露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-320253 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-250614

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