特許
J-GLOBAL ID：200903044275501975
位置認識方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-090180
公開番号（公開出願番号）：特開平11-289200
出願日： 1998年04月02日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【課題】 基板とマークの任意の組合せに対して自動的に最適なパターン抽出方法を選択して適正に位置認識する。【解決手段】 被検査対象物を撮像する撮像系1と、撮像系1から出力される信号を処理し特徴パターンを抽出するための複数のパターン抽出方法を保持する画像処理手段5とを備えた位置認識装置において、特徴パターンの信号と背景の信号の輝度レベルを各々定量分析するための定量分析手段2、3と、定量分析の結果に基づいて画像処理手段5のパターン抽出方法を選択する制御部4とを備え、特徴パターン形状の領域と背景の領域の各々について画像の輝度レベルの定量分析の結果に基づいて領域間の輝度分布状態を判定し、画像の輝度分布状態に応じて適切なパターン抽出方法を選択するようにした。
請求項（抜粋）：
基板上の所定位置に部品に装着するために設けられた特徴パターンの位置を認識する位置認識方法において、特徴パターンの画像を入力する第1工程と、入力画像における特徴パターンと背景の領域を指定する第2工程と、各領域における平均輝度と輝度分布の標準偏差を算出する第3工程と、平均輝度と輝度分布の標準偏差に基づいてパターン抽出を選択する第4工程とを備えたことを特徴とする位置認識方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05K 13/04 Z
, H05K 13/08 B
