特許

J-GLOBAL ID：200903044306231386

凹欠陥修正方法

発明者： 横山 寿文
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-264400
公開番号（公開出願番号）：特開平8-106155
出願日： 1994年10月05日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 転写用マスクの凹欠陥部位に不透明膜を集束イオンビーム(FIB)アシストCVDにより成膜し修正する方法において、修正の際のビームのハロー等による裾引き状の薄い成膜部の品質への影響を無くした修正方法で且つ、修正の許容度や転写の際のデフオーカスの許容度の大きな修正方法を提供する。【構成】 フオトマスクにおける遮光膜や、位相シフトフオトマスクにおける遮光膜やシフター膜部の欠損である凹欠陥部位に不透明膜を集束イオンビームアシストCVDにより成膜し修正する方法であって、修正の際の成膜の膜厚を、フオトマスクないし位相シフトフオトマスクを転写する条件における、転写のデフオーカスに対する転写像のサイズの変化状態、および修正位置ズレに対する転写像状態より判断した、修正時のビームのハロー等による裾引き状の薄い成膜部の転写における品質への影響をも含めて考慮した範囲の膜厚に調整する。

請求項（抜粋）：

フオトマスクにおける遮光膜や、位相シフトフオトマスクにおける遮光膜やシフター膜部の欠損である凹欠陥部位に不透明膜を集束イオンビームアシストCVDにより成膜し修正する方法であって、修正の際の成膜の膜厚を、フオトマスクないし位相シフトフオトマスクを転写する条件における、転写のデフオーカスに対する転写像のサイズの変化状態、および修正位置ズレに対する転写像状態より判断した、修正時のビームのハロー等による裾引き状の薄い成膜部の転写における品質への影響をも含めて考慮した範囲の膜厚に調整することを特徴とする凹欠陥修正方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  C30B 25/00 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ホトマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-303557   出願人：株式会社日立製作所