特許
J-GLOBAL ID：200903044320052958
配線マスクパターンデータ作成方法及び装置、並びに該パターンデータ作成プログラムを記録した記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西村 征生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065695
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258893
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 間隔発生の判別のためのデータ量及び処理時間の削減等を図る。【解決手段】 補正図形付加場所決定部3で配線図形記憶装置2から配線図形及びコンタクト図形を読み込んで補正図形付加場所を決定し、決定された補正図形付加場所毎に図形補正処理部4で所定の範囲内の配線図形を間隔発生対象の配線図形とし、その対象とされる配線図形を用いて間隔を決定する。そして、補正図形付加場所となっている配線図形に補正図形及び埋め図形を付加し、該補正図形及び段埋め図形と他の配線図形との間がスペーシング規則違反となったか否かを判別して違反の場合前記補正図形及び段埋め図形の辺をスペーシング規則違反解消距離だけ前記他の配線図形から離れた位置まで移すか、又は前記補正図形をスペーシング規則違反解消距離だけ縮小して作成する。
請求項（抜粋）：
下層の配線又は電極と上層の配線又は電極とを接続するためのコンタクトが、前記下層又は上層の配線の終端部又は角部の領域に形成されるとき、当該配線の終端部又は角部が光学的近接効果によりやせ細って形成される分を見込んで、当該配線の終端部又は角部に相当する配線図形の終端部又は角部に補正図形を隣接付加することで当該配線図形の終端部又は角部を予め膨らませておき、この結果、隣接付加された当該補正図形の任意の一辺と前記配線図形の任意の一辺とがスペーシング規則違反して相対向することとなったとき、当該スペーシング規則違反する間隔を埋め図形で埋める配線マスクパターンデータ作成方法であって、前記補正図形を内包する所定の大きさの検索枠内にある前記配線図形の任意の一辺と前記補正図形の任意の一辺との間がスペーシング規則違反となって相対向しているか否かを調べてゆき、スペーシング規則違反があるとき、そのスペーシング規則違反となっている前記配線図形の一辺と前記補正図形の一辺との間隔を埋め図形で埋めることを特徴とする配線マスクパターンデータ作成方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/82
, G06F 17/50
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/82 C
, G06F 15/60 658 M
2H095BB01
, 5B046AA08
, 5B046BA04
, 5F064EE14
, 5F064EE22
, 5F064EE27
, 5F064HH06
, 5F064HH10
, 5F064HH12
