特許
J-GLOBAL ID:200903044406741950

高硬度高密度立方晶窒化ホウ素系焼結体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 富田 和夫 ,  鴨井 久太郎 ,  影山 秀一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-304553
公開番号(公開出願番号):特開2008-121046
出願日: 2006年11月09日
公開日(公表日): 2008年05月29日
要約:
【課題】切削工具、ヒートシンク等に利用される高硬度高密度立方晶窒化ホウ素系焼結体を提供する。 【解決手段】平均粒径0.5〜6μmの立方晶窒化ホウ素粉末10〜50体積%と、平均粒径0.1〜1μmのβ-サイアロン粉末50〜90体積%とを混合し、80〜120MPaの圧力で加圧し、同時に、真空雰囲気中で直流パルス電流を印加し、昇温速度80〜130°C/minで1500〜1700°Cの加熱温度範囲に加熱し、該加熱温度範囲で1〜10分加熱保持する放電プラズマ焼結により、高硬度高密度立方晶窒化ホウ素系焼結体を得る。 【選択図】 なし
請求項(抜粋):
平均粒径0.5〜6μmの立方晶窒化ホウ素粉末10〜50体積%と、平均粒径0.1〜1μmのβ-サイアロン粉末50〜90体積%とを混合し、放電プラズマ焼結によって焼結したことを特徴とする高硬度高密度立方晶窒化ホウ素系焼結体。
IPC (3件):
C22C 1/05 ,  B22F 3/105 ,  C04B 35/584
FI (4件):
C22C1/05 M ,  B22F3/105 ,  C04B35/58 102T ,  C04B35/58 102A
Fターム (15件):
4G001BA34 ,  4G001BA52 ,  4G001BB34 ,  4G001BB52 ,  4G001BC13 ,  4G001BC41 ,  4G001BC43 ,  4G001BC54 ,  4G001BD12 ,  4G001BD18 ,  4K018AD14 ,  4K018BB04 ,  4K018EA21 ,  4K018KA15 ,  4K018KA70
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
  • 立方晶窒化硼素質焼結体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-108286   出願人:京セラ株式会社
  • 特開平3-177361
  • 特開平3-177361
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