純水製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内山充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-112465
公開番号（公開出願番号）：特開2000-301146
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】発電所用水、医薬品用水、液晶・半導体製造工場用水など、高い純度の水質が要求される純水を必要とする分野で、イオン交換樹脂の再生に使用した再生剤の廃液を、逆浸透膜装置の給水のpH調整剤として再利用することにより、酸、アルカリなどの薬剤の使用量を節減することができる純水製造装置を提供する。【解決手段】(A)pH調整機構、(B)逆浸透膜装置及び(C)イオン交換樹脂塔を有する純水製造装置において、(D)アニオン交換樹脂再生の際に生ずるアルカリ廃液をpH調整機構に供給する機構を備えてなることを特徴とする純水製造装置。

請求項（抜粋）：

(A)pH調整機構、(B)逆浸透膜装置及び(C)イオン交換樹脂塔を有する純水製造装置において、(D)アニオン交換樹脂再生の際に生ずるアルカリ廃液をpH調整機構に供給する機構を備えてなることを特徴とする純水製造装置。

IPC (11件)：

C02F 1/42 , B01J 49/00 , C02F 1/44 , C02F 1/66 510 , C02F 1/66 521 , C02F 1/66 540 , C02F 1/66 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

FI (14件)：

C02F 1/42 A , B01J 49/00 D , C02F 1/44 J , C02F 1/66 510 A , C02F 1/66 521 X , C02F 1/66 540 D , C02F 1/66 540 C , C02F 9/00 502 H , C02F 9/00 502 J , C02F 9/00 502 Z , C02F 9/00 502 F , C02F 9/00 503 B , C02F 9/00 504 B , C02F 9/00 504 E

Fターム (30件)：

4D006GA03 , 4D006KA01 , 4D006KA02 , 4D006KA03 , 4D006KA52 , 4D006KA55 , 4D006KA56 , 4D006KA57 , 4D006KA69 , 4D006KA71 , 4D006KA72 , 4D006KB11 , 4D006KB12 , 4D006KB17 , 4D006KD17 , 4D006KE15Q , 4D006MC54 , 4D006PB06 , 4D006PB23 , 4D006PC03 , 4D025AA01 , 4D025AA07 , 4D025AB05 , 4D025BA08 , 4D025BA14 , 4D025BB02 , 4D025BB04 , 4D025DA01 , 4D025DA03 , 4D025DA05

引用特許：

審査官引用 (6件)

硼素含有水の処理装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-242362 出願人：オルガノ株式会社
イオン交換装置および純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-044947 出願人：栗田工業株式会社
超純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-022595 出願人：オルガノ株式会社

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