特許

J-GLOBAL ID：200903044428973871

メソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法

発明者： 黒田 一幸 ,  宮田 浩克
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-005813
公開番号（公開出願番号）：特開2001-058812
出願日： 2000年01月06日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。【解決手段】 高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。

請求項（抜粋）：

高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体。

IPC (2件)：

C01B 33/12 ,  C08J 7/12

FI (2件)：

C01B 33/12 C ,  C08J 7/12 Z

Fターム (39件)：

4F073AA06 ,  4F073AA32 ,  4F073BA06 ,  4F073BA07 ,  4F073BA23 ,  4F073BA24 ,  4F073BA29 ,  4F073BA31 ,  4F073BB01 ,  4F073EA01 ,  4F073EA03 ,  4F073EA64 ,  4F073EA77 ,  4F073GA01 ,  4F073GA05 ,  4G072AA28 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072CC13 ,  4G072FF01 ,  4G072FF07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ33 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072LL14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072TT30 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 整列メソポーラス型薄フィルム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-512640   出願人：サンディアコーポレーション