特許
J-GLOBAL ID：200903044483291917
ドライフィルムを使用したフォトレジスト形成用積層板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-035871
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235257
出願日： 1999年02月15日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】 ドライフィルムを積層して使用するための特定の表面塗布剤を塗布した基板の提供。【解決手段】 基板上に、(A)側鎖にカルボキシル基とビニル基を有する特定の変性重合体、(B)炭素数7以上の鎖状及び/又は環状構造のアルカンジオール類のジ(メタ)アクリレートからなる光重合性ビニルモノマー、(C)有機溶媒、(D)光重合開始剤、(E)ハレーション防止剤からなるタックフリー性のアルカリ現像型光硬化性樹脂組成物を塗布してなるドライフィルム用基板及びその製法。
請求項（抜粋）：
基板上に、下引層としてタックフリー性のアルカリ現像型光硬化性樹脂組成物を均一に塗布し、乾燥させた後、次いでその上にドライフィルムを圧着積層させることを特徴とするドライフィルムを使用したフォトレジスト形成用積層板の製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, H05K 3/06
G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, H05K 3/06 J
2H025AA00
, 2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB11
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC43
, 2H025BC53
, 2H025BC83
, 2H025BC85
, 2H025BC86
, 2H025CC03
, 2H025CC12
, 2H025CC13
, 2H025DA11
, 2H025DA18
, 2H025DA20
, 2H025DA34
, 2H025DA40
, 2H025EA01
, 2H025EA04
, 2H025EA10
, 2H025FA17
, 5E339AD01
, 5E339AD03
, 5E339BC02
, 5E339CC01
, 5E339CC02
, 5E339CC10
, 5E339CD01
, 5E339CE12
, 5E339CE16
, 5E339CF15
, 5E339DD02
