特許
J-GLOBAL ID：200903044517636579
高分散相エマルジョンを重合し、硬化しそして乾燥する連続法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 福本 積
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-501971
公開番号（公開出願番号）：特表2004-517969
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
本発明は重合可能な連続相を有する高分散相エマルジョン(HIPE)を乾燥フォームへと成形するための完全に連続の方法を含み、1)(a)1種以上の重合性モノマーを含む少なくとも70体積%の連続相、(b)高分散相エマルジョンを生じさせるために有効な量の界面活性剤、及び、(c)分散相を含む、高分散相エマルジョン(HIPE)を提供すること、2)より下方で移動している支持基材上に前記エマルジョンを堆積させること、3)前記支持基材上に所望の厚さに前記エマルジョンをレベリングすること、4)加熱ゾーンの末端までにHIPE中のモノマーの少なくとも75%を重合させるために十分な時間、加熱ゾーンをとおして前記エマルジョン及び前記より下方で移動している支持基材を通過させることでモノマーを重合すること、及び、5)分散相の50%を超える量が除去されたフォームを生じるために十分な時間、重合したHIPEを乾燥ゾーン中で乾燥することを含む。
請求項（抜粋）：
1)a)1種以上の重合性モノマーを含む少なくとも70体積%の連続相、
b)高分散相エマルジョンを生じさせるために有効な量の界面活性剤、及び、
c)分散相、
を含む、高分散相エマルジョン(HIPE)を提供すること、
2)より下方で移動している支持基材上に前記エマルジョンを堆積させること、
3)前記支持基材上に所望の厚さに前記エマルジョンをレベリングすること、
4)加熱ゾーンの末端までにHIPE中のモノマーの少なくとも75%を重合させるために十分な時間、加熱ゾーンをとおして前記エマルジョン及び前記より下方で移動している支持基材を通過させることでモノマーを重合すること、及び、
5)分散相の50%を超える量が除去されたフォームを生じるために十分な時間、重合したHIPEを乾燥ゾーン中で乾燥すること、
を含む、重合した高分散相エマルジョンフォームの連続製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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