特許
J-GLOBAL ID：200903044532952649
タンデム型反応器内でのバイモーダルエチレン重合体の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-251447
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222124
出願日： 1992年09月21日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 加工性と機械的特性との好ましい組み合わせ及び高い静置嵩密度を有するバイモーダルエチレン重合体配合物の製造方法の提供。【構成】 重合条件下の第1気相流動床反応帯域において、過半量のエチレン及び任意に水素を含む気体モノマー組成物を、主触媒成分としての以下に定義する担持チタン/マグネシウム錯体触媒先駆体と還元助触媒としてのヒドロカルビルアルミニウムとの組み合わせに接触させて、触媒粒子と会合した比較的高分子量(HMW)の重合体を製造し;HMW/触媒粒子を、H2/C2比が少なくとも0.9かつ第1反応帯域の少なくとも8.0倍でありそしてエチレン分圧が第1反応帯域の少なくとも1.7倍である重合条件下で、過半量のエチレンを含む気体モノマー組成物及び水素をまた供給するが上記触媒の遷移金属成分は追加しない第2気相流動床反応帯域に移して、比較的低分子量(LMW)の重合体を製造する。
請求項（抜粋）：
バイモーダルエチレン重合体配合物の製法であって、重合条件下の第1気相流動床反応帯域において、主要割合のエチレン及び任意に水素を含む気体モノマー組成物を、主触媒成分としての以下に定義する担持チタン/マグネシウム錯体触媒先駆体と還元助触媒としてのヒドロカルビルアルミニウムとの組み合わせと、水素/エチレンモル比(H2/C2比)約0.3以下、エチレン分圧約100psia以下で接触させて、触媒粒子と会合した比較的高分子量(HMW)の重合体を製造し;HMW/触媒粒子を、H2/C2比が少なくとも0.9かつ第1反応帯域の少なくとも8.0倍でありそしてエチレン分圧が第1反応帯域の少なくとも1.7倍である重合条件下で、主要割合のエチレンを含む気体モノマー組成物及び水素をまた供給するが上記触媒の遷移金属成分は追加しない第2気相流動床反応帯域に移して、HMW重合体/触媒粒子の上及びボイド内に付着した比較的低分子量(LMW)の重合体を製造し、但し、第2反応帯域から得られるバイモーダル重合体配合物のHMW重合体分率は少なくとも約0.35であり;チタン/マグネシウム錯体は無機多孔質担体上に担持され、実験式MgaTi(OR)bXc(ED)d[式中、Rは炭素原子数1〜14の脂肪族若しくは芳香族炭化水素基又はCOR′(式中、R′は炭素原子数1〜14の脂肪族又は芳香族炭化水素基である)であり;各OR基は同じ又は異なるものであり;XはCl、BrもしくはI又はこれらを混合したものであり;EDは電子供与体であり、これはチタンをベースにした錯体の先駆体が可溶性の液体ルイス塩基であり;aは0.5〜56であり;bは0、1又は2であり;cは1〜116であり;そしてdは2〜85である]を有し、この錯体は、式Ti(OR)aXb(式中、R及びXは上記錯体の式の定義通りであり;aは0、1又は2であり;bは1〜4であり;そしてa+bは3又は4である)の化合物を、式MgX2(式中、Xは上記錯体の式の定義通りである)の化合物と、電子供与体EDの存在下で反応させることによって形成した後の本来の酸化状態で第1反応帯域へ加える;ことより成る上記の方法。
IPC (2件)：
C08F 10/02 MSU
, C08F 4/658 MFG
