特許

J-GLOBAL ID：200903044599465793

真空乾燥方法

発明者： 山下 英毅 ,  吉永 光宏 ,  森田 雅史 ,  末光 敏行
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (1件)： 村山 光威
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-108823
公開番号（公開出願番号）：特開2009-257688
出願日： 2008年04月18日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：

【課題】塗布膜中の固形分から良好に溶媒を乾燥することが可能な真空乾燥方法の実現を目的とする。【解決手段】真空乾燥を実施する際に、ペクレ数が100以下であるように制御することにより、固形分が溶液中に均一な状態で乾燥していき、十分な乾燥が可能になる。よって、乾燥後の固形分に付着残留している溶媒の量を大幅に減少させ、飽和させることができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被乾燥物に固形分を含んだ溶液を塗布して液膜を形成した後、該被乾燥物を真空状態にて乾燥する乾燥工程において、前記液膜の膜収縮速度を温度伝達に係るブラウン拡散速度で除して求められるペクレ数が100以下になるように制御することを特徴とする真空乾燥方法。

IPC (2件)：

F26B 5/04 ,  F26B 21/14

FI (2件)：

F26B5/04 ,  F26B21/14

Fターム (9件)：

3L113AA01 ,  3L113AC23 ,  3L113AC24 ,  3L113AC28 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA16 ,  3L113CB16 ,  3L113DA24

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3711226号公報
  
• 樹脂組成物層の乾燥方法、この乾燥方法を用いたカラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-366751   出願人：キヤノン株式会社