特許
J-GLOBAL ID：200903044609104700
レーザー照射システム
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-027454
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203843
出願日： 1995年01月24日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】【目的】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置のパネルを作製する際に、レーザー光の照射によるアニールを効果的に行う。【構成】 線状のレーザー光107を2つの減光フィルター104と105により分割してそのエネルギーを制御する。そしてアクティブマトリクス型の液晶表示装置のパネルの周辺回路領域111と画素領域112とに異なるエネルギーでレーザー光108と109とを照射する。こうすることにより、必要とする領域に必要とするエネルギーでレーザー光を照射することができる。
請求項（抜粋）：
所定の面積をもつビームを照射できるレーザー照射装置と、部分部分でエネルギー減衰率を変えることが可能なエネルギー減衰装置と、を組み合わせることを特徴とするレーザー照射システム。
IPC (5件)：
H01L 21/268
, G02F 1/136 500
, H01L 21/20
, H01L 29/786
, H01L 21/336
H01L 29/78 612 B
, H01L 29/78 627 G
