特許
J-GLOBAL ID：200903044626434056
シロキサンの重合方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-350533
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204162
出願日： 1999年12月09日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：
【要約】【課題】 ホスファゼン塩基によって触媒されるシロキサンの重合を提供すること。【解決手段】 水存在下で、ホスファゼン塩基触媒と一緒に、シリコン結合基R’を有するシロキサンとシリコン結合基R’のない環状または線状シロキサンとを混合する工程、およびシリコン結合基R’を有するシロキサンが縮合し、シリコン結合基R’のない環状または線状シロキサンが平衡により重合する工程を含む重合方法。
請求項（抜粋）：
シリコン結合基R’(R’は、ヒドロキシル基または炭素原子1〜8個を有するヒドロカルボノキシ基である)を有するシロキサンを、シリコン結合基R’がない環状または線状シロキサンおよびホスファゼン塩基触媒と混合し、重合させることによって、前記シリコン結合基R’を有するシロキサンが縮合し、かつ前記のシリコン結合R’基がない環状または線状シロキサンが平衡により重合することを特徴とするホスファゼン触媒を用いるシロキサンの重合方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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