特許

J-GLOBAL ID：200903044681768672

脱臭装置

発明者： 佐藤 芳章 ,  中井 慶治
出願人/特許権者： ニチアス株式会社
代理人 (1件)： 岩田 享完
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-103513
公開番号（公開出願番号）：特開平9-267021
出願日： 1996年03月30日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 脱臭材の圧密現象を防止し、通気抵抗を最小限に抑え、かつ微生物と水と空気の環境を最適に維持して脱臭効果に優れ、安価で、維持管理の容易な悪臭ガスの脱臭装置を提供する。【解決手段】 悪臭ガスが導入される処理室13内のグリット21上に、複数のハニカム構造体16からなるハニカム層18を網状のプレート28を介在させて上下方向に多段に積層し、各ハニカム構造体16の空間17内に脱臭材20を充填することで、脱臭材20の圧密を防止し、脱臭材20の高空隙を維持する構成としてある。処理室13の下端部には、悪臭ガスを導入するメインブロワー5を備え、かつ噴出管14を先端部に設けた第2通気ダンパー9が配設してあり、また、処理室13の上部に散水装置23が設けてある。

請求項（抜粋）：

悪臭ガスが第2通気ダンパーを介して導入される処理室内のグリット上に、複数のハニカム構造体からなるハニカム層を網状のプレートを介在して上下方向に積層し、各ハニカム構造体の空間内に微生物担体と種菌からなる脱臭材が充填され、前記第2通気ダンパーはメインブロワーを備え、かつ先端部に噴出管を設けて処理室の下端部に配設し、処理室の上部に散水装置を設けていることを特徴とする脱臭装置。

IPC (3件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/34 ZAB

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 脱臭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-103514   出願人：ニチアス株式会社
• 特開昭64-047424