フォトマスク

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-311259
公開番号（公開出願番号）：特開平9-152708
出願日： 1995年11月29日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】焦点深度を改良したフォトマスクを提供し、もって感光性樹脂膜の微細パターンの形成を可能にする。【解決手段】遮光膜2に接した透明基板1の箇所に幅Wの凹部3を形成して第1の透明領域11を構成し、遮光膜2との間に第1の透明領域11を挟んで位置す透明基板の箇所に第2の透明領域12を構成することにより、第1の透明領域11からの露光光の位相を第2の透明領域12からの露光光の位相より進ませ、これによりフォーカス特性を改善する。

請求項（抜粋）：

透明基板上に選択的に形成された遮光膜により、透明領域と遮光領域とからなる所定のパターンを有するフォトマスクにおいて、前記透明領域は、前記遮光領域に接しかつ該遮光領域に沿って帯状に形成された第1の透明領域と、前記遮光領域との間に前記第1の透明領域を挟んで位置する第2の透明領域とを有し、前記第1の透明領域からの露光光は前記第2の透明領域からの露光光より位相が進む構成となっていることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-140743
特開平4-051151
特開平4-024637

全件表示

前のページに戻る