特許

J-GLOBAL ID：200903044725815061

ポジ型レジスト組成物

発明者： 土井 宏介 ,  鈴木 貴子 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245440
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069075
出願日： 1996年08月29日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】膜厚に対する感度変化が少なく、しかも微細なレジストパターンであっても膜減りが少なく、また露光量のズレに対しても焦点深度幅が広く、マスク寸法に対して寸法変動が少ないレジストパターンを形成するポジ型レジスト組成物、及びレジストパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物、及び(C)有機溶剤からなるポジ型レジスト組成物において、前記(C)有機溶剤が(イ)2-ヘプタノン、(ロ)乳酸エチル及び(ハ)沸点200〜350°Cの高沸点有機溶剤を含有する混合溶剤であるポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物、及び(C)有機溶剤からなるポジ型レジスト組成物において、前記(C)有機溶剤が(イ)2-ヘプタノン、(ロ)乳酸エチル及び(ハ)沸点200〜350°Cの高沸点有機溶剤を含有する混合溶剤であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-110414   出願人：住友化学工業株式会社