特許
J-GLOBAL ID：200903037087416328
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-110414
公開番号（公開出願番号）：特開平8-305014
出願日： 1995年05月09日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 諸性能に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 (A)キノンジアジド系化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂、ならびに(C)2-ヘプタノン、乳酸エチルおよびγ-ブチロラクトンを含む溶剤系を含有してなるポジ型レジスト組成物。【効果】 キノンジアジド系化合物の溶解性に優れ、感度、プロファイル、塗布性などのレジスト諸性能にも優れている。
請求項（抜粋）：
(A)キノンジアジド系化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂、ならびに(C)2-ヘプタノン、乳酸エチルおよびγ-ブチロラクトンを含む溶剤系を含有してなるポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/022
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
G03F 7/022
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
