特許
J-GLOBAL ID：200903044777082321
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-001973
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199698
出願日： 1997年01月09日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 真空容器内において安定なプラズマを発生させることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 誘電体で形成されたマイクロ波透過部材10を介して真空容器2内にマイクロ波を導入し、このマイクロ波を前記真空容器2内に導入された反応ガスに照射してプラズマを発生させるようにしたプラズマ処理装置である。そして、前記マイクロ波透過部材10の厚さを前記誘電体内における前記マイクロ波の半波長の整数倍とする。
請求項（抜粋）：
誘電体で形成されたマイクロ波透過部材を介して真空容器内にマイクロ波を導入し、このマイクロ波を前記真空容器内に導入された反応ガスに照射してプラズマを発生させるようにしたプラズマ処理装置において、前記マイクロ波透過部材の厚さを前記誘電体内における前記マイクロ波の半波長の整数倍としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
