特許
J-GLOBAL ID：200903044808241113

化粧料

発明者：
瀧口 整

瀧口 整 について

, 
宮永 清一

宮永 清一 について

, 
織田 卓

織田 卓 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224216
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048771
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 耐水性、耐油性、耐摩擦性及び塗膜柔軟性に優れ、化粧成分の濡れ、よれ、消失を防止して化粧持ちが良く、しかも安定性に優れた化粧料を提供する。【解決手段】 一般式(1)【化1】〔式中、m個のXは同一又は異なって、一般式(X)で表わされる基を示し、【化2】(R1 、R2 及びR3 は同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示す。aは1又は2の数を示す。Rf は炭素数1〜32の炭化水素基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基を示す。n個のYは同一又は異なって、一般式(Y1)、(Y2)又は(Y3)で表わされる基を示し、【化3】(R4 は水素原子又は炭素数1〜32の炭化水素基を示す。R5 、R6 、R7 、R8 及びR9 は同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示す。R10及びR11は同一又は異なって水素原子、カルボキシル基、カルボキシメチル基又はそれらの塩を示す。bは1又は2の数を示す。eは3〜6の数を示す。)m及びnはm/(m+n)=0.2〜1及びm+n≧10を満足する数を示す。〕で表わされるポリエーテルを含有する化粧料。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】〔式中、m個のXは同一又は異なって、一般式(X)で表わされる基を示し、【化2】(R1 、R2 及びR3 は同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示す。aは1又は2の数を示す。Rf は炭素数1〜32の炭化水素基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基を示す。n個のYは同一又は異なって、一般式(Y1)、(Y2)又は(Y3)で表わされる基を示し、【化3】(R4 は水素原子又は炭素数1〜32の炭化水素基を示す。R5 、R6 、R7 、R8 及びR9 は同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示す。R10及びR11は同一又は異なって水素原子、カルボキシル基、カルボキシメチル基又はそれらの塩を示す。bは1又は2の数を示す。eは3〜6の数を示す。)m及びnはm/(m+n)=0.2〜1及びm+n≧10を満足する数を示す。〕で表わされるポリエーテルを含有する化粧料。
IPC (2件)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (2件)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 J
Fターム (36件)：
4C083AA122 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC532 ,  4C083AC792 ,  4C083AC852 ,  4C083AD022 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD212 ,  4C083AD352 ,  4C083AD642 ,  4C083CC01 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC19 ,  4C083DD17 ,  4C083DD31 ,  4C083EE01 ,  4C083EE07
引用特許：
出願人引用 (10件)
  • ポリエーテル
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-215462   出願人：花王株式会社
  • ポリエーテル
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-411419   出願人：花王株式会社
  • 潤滑油
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-184374   出願人：ダイキン工業株式会社
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