特許
J-GLOBAL ID：200903044818984017
回折格子形成用位相マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-010365
公開番号（公開出願番号）：特開平11-212246
出願日： 1998年01月22日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 位相マスクの表面に異物や光ファイバーから昇華された樹脂等が付着しても形成される回折格子に欠陥が生じ難い回折格子形成用位相マスク。【解決手段】 透明基板の1面に格子状の凹溝26と凸条27の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光相互の干渉縞により回折格子を形成する位相マスク21において、凹溝26と凸条27の繰り返しパターンが設けられた表面上に光学的に透明な保護層30が設けられてなる回折格子形成用位相マスク。
請求項（抜粋）：
透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光相互の干渉縞により回折格子を形成する位相マスクにおいて、凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられた表面上に光学的に透明な保護層が設けられてなることを特徴とする回折格子形成用位相マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (5件)
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特開昭58-198007
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回折格子
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-111426
出願人：株式会社三協精機製作所
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特開平2-228602
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