特許
J-GLOBAL ID：200903044864951670

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法

発明者：
上村 政宏

上村 政宏 について

, 
石田 徳政

石田 徳政 について


出願人/特許権者：
株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-234630
公開番号（公開出願番号）：特開2004-075559
出願日： 2002年08月12日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】触媒の使用量を大いに低減するとともに、低コストで経済性に優れ、操作が簡便で触媒を再利用し易く、高い触媒回収率を確保し、かつ、十分な触媒反応効率を達成しうる、新規なヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法を提供する。【解決手段】本発明にかかる製造方法は、触媒の存在下で(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドとを反応させてヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを製造する方法において、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを留去して新規な触媒を補充した反応液を次の反応に用いるようにすることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
触媒の存在下で(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドとを反応させてヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを製造する方法において、 ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを留去して新規な触媒を補充した反応液を次の反応に用いるようにする、 ことを特徴とする、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法。
IPC (3件)：
C07C67/26 ,  B01J38/00 ,  C07C69/653
FI (3件)：
C07C67/26 ,  B01J38/00 301B ,  C07C69/653
Fターム (10件)：
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AD11 ,  4H006BA14 ,  4H006BA32 ,  4H006BN10 ,  4H006KA19 ,  4H006KE00 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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