特許

J-GLOBAL ID：200903044878225026

架橋性スルホン酸基含有ポリアリーレンエーテル系化合物

発明者： 坂口 佳充 ,  北村 幸太
出願人/特許権者： 東洋紡績株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-079465
公開番号（公開出願番号）：特開2005-264008
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】耐熱性、加工性、イオン伝導性にすぐれ、特に寸法安定性に良好な特性を示すイオン伝導膜を提供する高分子材料を得ること。【解決手段】高分子電解質膜として有用なスルホン酸基を導入したポリアリーレンエーテル系化合物、すなわち、電子吸引性の芳香環上にスルホン酸基を導入した3,3’-ジスルホ-4,4‘-ジクロロジフェニルスルホン構造単位とともにベンゾニトリル構造単位を導入したポリアリーレンエーテルに熱および/または光により架橋する成分を含有させることにより寸法安定性に優れたものとすることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1)とともに一般式(2)で示される構成成分を含むとともに,分子鎖中に熱および/または光により架橋する成分を含有していることを特徴とするポリアリーレンエーテル系化合物。

IPC (7件)：

C08G65/40 ,  C08G75/23 ,  C09J171/00 ,  H01B1/06 ,  H01B13/00 ,  H01M8/02 ,  H01M8/10

FI (8件)：

C08G65/40 ,  C08G75/23 ,  C09J171/00 ,  H01B1/06 A ,  H01B13/00 Z ,  H01M8/02 E ,  H01M8/02 P ,  H01M8/10

Fターム (11件)：

4J005AA24 ,  4J030BA09 ,  4J030BG06 ,  4J040EE061 ,  4J040GA25 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H026BB10 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026HH05

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 高分子電解質膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-142226   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
• 光架橋性高分子固体電解質、架橋高分子固体電解質膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-015986   出願人：東洋紡績株式会社
• 熱架橋性高分子固体電解質、高分子固体電解質膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-015987   出願人：東洋紡績株式会社
• プロトン酸基含有架橋性ポリスルホンとその製法、それよりなるイオン伝導性高分子膜、およびそれを用いた燃料電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-104461   出願人：三井化学株式会社