特許
J-GLOBAL ID：200903044886874548
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016979
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211679
出願日： 1994年01月17日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 機構的に同種のロード機構とアンロード機構を1箇所に纒め、これに伴ってカセット搬送機構を省略でき、もって装置を簡素化すると共に小型化して設置コストを格段に削減できる洗浄装置を提供する。【構成】 本洗浄装置は、洗浄処理機構2の全範囲に亘って移動する第1ウエハ搬送機構31と、この第1ウエハ搬送機構31とは別の経路を洗浄処理機構2に沿って移動する第2搬送機構32とからなり、第1搬送機構31は主として未処理の半導体ウエハWを洗浄処理室21、22へ搬送すると共に各洗浄処理室21、22との間で半導体ウエハWを搬送する場合に使用し、第2搬送機構33は処理後の半導体ウエハWを処理前の元の場所(ロード・アンロード機構5)へ搬送する場合に使用するように構成されたものである。
請求項（抜粋）：
一方向に順次配列された複数の洗浄処理室を有する洗浄処理機構と、この洗浄処理機構に沿って被処理体を搬送し、被処理体を上記各洗浄処理室との間で授受する搬送機構とを備え、上記搬送機構は、上記洗浄処理機構の全範囲に亘って移動する第1搬送機構と、この第1搬送機構とは別の経路を上記洗浄処理機構に沿って移動する第2搬送機構とからなり、第1搬送機構は主として未処理の被処理体を洗浄処理室へ搬送すると共に各洗浄処理室との間で被処理体を搬送する場合に使用し、第2搬送機構は処理後の被処理体を処理前の元の場所へ搬送する場合に使用するように構成されたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/68
