特許
J-GLOBAL ID:200903044910427086

ガスバリアフィルム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-173355
公開番号(公開出願番号):特開2002-361774
出願日: 2001年06月08日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、膜厚を所定の厚さに保ちつつ、極めて優れたガスバリア性を有し、さらに耐屈曲性および耐衝撃性を有するガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。【解決手段】 本発明は、基材の片面または両面に、プラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、上記酸化珪素膜は、Si原子数100に対してO原子数180〜200の範囲内の成分割合であり、かつSi原子数100に対してC原子数40〜80の成分割合からなり、さらに1045〜1060cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ1274±8cm-1にSi-CH3伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより上記目的を達成するものである。
請求項(抜粋):
基材の片面または両面に、プラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Si原子数100に対してO原子数180〜200の範囲内の成分割合であり、かつSi原子数100に対してC原子数40〜80の成分割合からなり、さらに1045〜1060cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ1274±4cm-1にSi-CH3伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (5件):
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 27/00 ,  B65D 65/40 ,  C23C 16/40
FI (6件):
B32B 9/00 A ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 27/00 H ,  B32B 27/00 M ,  B65D 65/40 F ,  C23C 16/40
Fターム (37件):
3E086AB01 ,  3E086AD01 ,  3E086AD02 ,  3E086BA04 ,  3E086BA12 ,  3E086BA15 ,  3E086BB02 ,  3E086BB05 ,  3E086CA01 ,  3E086CA28 ,  3E086CA31 ,  4F100AA20B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100EH66B ,  4F100GB16 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02B ,  4F100JG01D ,  4F100JK10 ,  4F100JL13C ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B ,  4K030BA44 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030DA08 ,  4K030FA03 ,  4K030JA01 ,  4K030LA01 ,  4K030LA11
引用特許:
審査官引用 (1件)

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