特許
J-GLOBAL ID：200903044913633540
ノボラック型フェノール樹脂の製造方法及びフォトレジスト用ノボラック型フェノール樹脂
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 敬介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-125292
公開番号（公開出願番号）：特開2005-306987
出願日： 2004年04月21日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 フェノール類ダイマー成分が少なく、重量平均分子量が大きく高い軟化点を有するノボラック型フェノール樹脂を高収率で得ることができる高分子量ノボラック型フェノール樹脂の製造方法を提供する。【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類とを、フェノール類100質量部に対し5質量部以上のリン酸類の存在下で不均一系反応させてノボラック型フェノール樹脂を得る第一工程と、非反応性の有機溶媒を反応系中に添加して前記フェノール樹脂を溶解し、さらにアルデヒド類と反応させる第二工程を有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
フェノール類とアルデヒド類とを、フェノール類100質量部に対し5質量部以上のリン酸類の存在下で不均一系反応させてノボラック型フェノール樹脂を得る第一工程と、非反応性の有機溶媒を反応系中に添加して前記フェノール樹脂を溶解し、さらにアルデヒド類と反応させる第二工程を有することを特徴とするノボラック型フェノール樹脂の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (19件)：
2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AB03
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AD03
, 2H025CB29
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 4J033CA01
, 4J033CA09
, 4J033CA11
, 4J033CA13
, 4J033CA28
, 4J033CB04
, 4J033CB21
, 4J033CC03
, 4J033CC11
出願人引用 (2件)
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特公平7-91352号公報
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特開平2-60915号公報
審査官引用 (2件)
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