電子線描画装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：春日讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-193510
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045605
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【目的】試料台に配置された試料の上面形状を正確に把握可能とし、描画精度及び描画効率を向上可能な電子線描画装置を実現する。【構成】高さ方向変形量算出部40は試料材質等毎に試料1の上面座標を算出する。テーパ成分算出部41は試料1のテーパ成分を計算し加算器42で変形量算出部40の出力と成分算出部41の算出テーパ成分とが加算されマトッリクス作成部34に供給される。作成部34で試料1の上面形状を示すマトリックスが作成されコンピュータ20を介し試料変形量データ格納部29に格納される。コンピュータ20は格納部29の格納データを焦点補正値算出部43に供給しこの算出部43の算出焦点補正値と高さ検出系21の検出試料上面高さとが加算器44で加算される。目標焦点値算出部36で算出された目標焦点値と加算器44の出力値とが減算器45で減算され焦点誤差データが生成され焦点補正制御部22に供給されて焦点補正器11が制御される。

請求項（抜粋）：

電子線を所望の電流密度と形状に制御し、電子線を偏向して、位置決め機構を有するステージ上に配置された平面状試料の表面上の所望の位置に照射し、所望の図形を描画する電子線描画装置において、試料の材質、厚み、大きさ、支持位置に対応して、予め記憶された試料の変形量算出データに基づいて、上記ステージ上に配置された試料の表面の変形量を算出する試料変形量算出手段と、試料表面の所定の基準面に対する傾斜成分を検出する傾斜成分算出手段と、上記試料変形量算出手段からの試料変形量情報と傾斜成分算出手段からの傾斜成分情報とに基づいて、上記試料表面の3次元座標を示すマトリックスを作成するマトリックス作成手段と、上記マトリックス作成手段により作成されたマトリックスに基づいて、電子線の焦点を補正する電子線焦点補正手段と、を備えることを特徴とする電子線描画装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/30 541 F , H01J 37/305 A , H01L 21/30 541 U

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-159425
特開平4-098818
特開平4-162337

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