特許
J-GLOBAL ID：200903044988151591
光ファイバの残留応力測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹内 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-356032
公開番号（公開出願番号）：特開2004-138618
出願日： 2003年10月16日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：
【課題】光ファイバの残留応力測定装置の提供。【解決手段】本発明の光ファイバの残留応力測定装置は、 光ファイバの残留応力測定のための光を発生する光源と、発生された光を平面波に変換するレンズ系と、平面波に変換された光を所望の入力偏光に変換して光ファイバに入射する偏光系と、偏光された光が、光ファイバの様々な方向に透過するように光ファイバを回転させる回転式測定部と、光ファイバを透過した光の位相変化から光ファイバの円形非対称応力分布を持つ残留応力を検出する検出系とを含めて構成されたことを特徴とする。 本発明によれば、光ファイバを回転させながら残留応力を測定できるため、円形非対称応力(stress)分布を持つ光ファイバの残留応力分布とその大きさを正確に測定することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
光ファイバの残留応力測定のための光を発生する光源と、
前記発生された光を平面波に変換するレンズ系と、
前記平面波に変換された光を所望の入力偏光に変換して前記光ファイバに入射する偏光系と、
前記偏光された光が、前記光ファイバの様々な方向に透過するように該光ファイバを回転させる回転式測定部と、
前記光ファイバを透過した光の位相変化から該光ファイバの円形非対称応力分布を持つ残留応力を検出する検出系とを含めて構成されることを特徴とする光ファイバの残留応力測定装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01M11/00 S
, G01M11/00 G
, G01L1/00 B
