特許

J-GLOBAL ID：200903045012117220

プラズマ処理装置

発明者： 山田 実 ,  速水 利泰
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-262451
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124862
出願日： 1994年10月26日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【構成】処理容器と、上部電極と、試料台を兼ねた下部電極と、前記上部電極と前記下部電極との間に高周波を印加する手段と、高周波の整合をとる手段とを備え、前記上部電極または前記下部電極の一方の電極に高周波が印加され、他方の電極および処理容器が接地される構成のプラズマ処理装置において、接地される電極と処理容器とが比誘電率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁される。【効果】プラズマ処理の再現性を悪化させることなく、また装置間のプラズマ処理の性能のばらつきも小さくすることができる。

請求項（抜粋）：

処理容器と、上部電極と、試料台を兼ねた下部電極と、前記上部電極と前記下部電極との間に高周波を印加する手段と、高周波の整合をとる手段とを備え、前記上部電極または前記下部電極の一方の電極に高周波が印加され、他方の電極および処理容器が接地される構成のプラズマ処理装置において、接地される電極と処理容器とが比誘電率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-154036
  
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-339216   出願人：三菱電機株式会社