特許

J-GLOBAL ID：200903045014274676

アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨方法

発明者： 河西 敏雄 ,  太田 勇夫 ,  西村 透
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025812
公開番号（公開出願番号）：特開2000-219874
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：

【要約】【課題】 高品質の研磨面を保ちながらしかも研磨速度を速くすることにより研磨工程の生産性の向上および低コスト化が可能な研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研磨方法を提供すること。【解決手段】 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨促進剤が、Al(OH)X(NH2SO3)3-X(但し、Xは0.4〜2.0の実数を示す。)の化学組成で表示される塩基性スルファミン酸アルミニウムであることを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物を調製すること、及び該研磨用組成物を用いてアルミニウムディスクを研磨すること。

請求項（抜粋）：

水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨促進剤が、Al(OH)X(NH2SO3)3-X(但し、Xは0.4〜2.0の実数を示す。)の化学組成で表示される塩基性スルファミン酸アルミニウムであることを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00

FI (3件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H

Fターム (7件)：

3C058AA07 ,  3C058CA04 ,  3C058CB03 ,  3C058CB05 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (2件)

• アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-310284   出願人：日産化学工業株式会社
• メモリーハードディスクの研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-113660   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド