特許

J-GLOBAL ID：200903045026953790

有機ハロゲン化合物の処理設備における排ガスの冷却処理方法及びその処理装置

発明者： 小林 淳志 ,  井元 和夫
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  財団法人クリーン・ジャパン・センター
代理人 (1件)： 小堀 益 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-126868
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318129
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】 高周波誘導熱プラズマ装置のプラズマトーチ部及びプラズマ反応炉内の圧力変動を極力小さくし、200〜400torrの圧力を一定に保ち、プラズマでの運転を安定させ、且つ真空ポンプの能力を小さくすることにより運転費を軽減させる。【構成】 高周波誘導熱プラズマ装置、プラズマ反応炉を有する高周波誘導熱プラズマ装置を用いて有機ハロゲン化合物を高温加水分解し発生した高温で、且つ強酸性の分解処理排ガスを冷却する方法において、プラズマ反応炉の下部に設けられた噴霧式冷却器から排ガス処理液を分解処理排ガスに噴霧して冷却することを特徴とする分解処理排ガスの冷却方法、及び高周波誘導熱プラズマ装置、プラズマ反応炉を有する高周波誘導熱プラズマ装置の冷却処理装置において、プラズマ反応炉の下部に噴霧式冷却器を設けたことを特徴とする冷却装置。

請求項（抜粋）：

高周波誘導熱プラズマを用い、プラズマ反応炉での有機ハロゲン化合物の高温加水分解により発生した排ガスの冷却処理方法において、プラズマ反応炉からの排ガスに排ガス処理液を噴霧して冷却することを特徴とする排ガスの冷却処理方法。

IPC (4件)：

B01D 53/70 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 47/06 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB

FI (4件)：

B01D 53/34 134 E ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 47/06 ZAB Z ,  B01D 53/34 ZAB

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-089920
  
• 特開昭60-154200
  
• 特開昭61-283327
  
• 高周波誘導熱プラズマ装置を用いた有機ハロゲン化合物の分解装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-227516   出願人：工業技術院長, 東京大学長, 東京電力株式会社, 新日本製鐵株式会社, 日本電子株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平3-089920
  
• 特開昭60-154200
  
• 特開昭61-283327