特許

J-GLOBAL ID：200903045035781713

光導波路基板の製造方法および光導波路基板

発明者： 広瀬 智財 ,  服部 哲也 ,  石川 真二
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-015993
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211240
出願日： 1995年02月02日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【目的】 上部クラッド層の割れを防止することのできる光導波路基板の製造方法を提供する。【構成】 石英基板及びこの基板上に形成された石英系のコアを有する光導波路基体を用意し、火炎中で生成したSiO2 のガラス微粒子を光導波路基体上に堆積させてコアを覆うガラス微粒子層を形成し、次いで、このガラス微粒子層に加熱処理を施して、基板と略同一または基板より小さい熱膨脹係数の上層部を有するガラス層を形成し、続いて、このガラス層を冷却して上部クラッド層とする。ガラス層は、基板と略同一または基板より小さい熱膨脹係数の上層部を有しているので、冷却時に引っ張り応力は作用せず、従って、上部クラッド層に割れは生じない。

請求項（抜粋）：

SiO2 を材料とする基板と、この基板上に形成されたSiO2 を主成分とするコアとを有する光導波路基体を用意する第1の工程と、火炎中で生成したSiO2 を主成分とするガラス微粒子を前記光導波路基体上に堆積させて前記コアを覆うガラス微粒子層を形成する第2の工程と、このガラス微粒子層に加熱処理を施して、前記基板と略同一または前記基板より小さい熱膨脹係数の上層部を有するガラス層を形成する第3の工程と、このガラス層を冷却して、前記コアを覆い前記コアより屈折率が低い上部クラッド層を形成する第4の工程と、を備える光導波路基板の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光導波路の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-053791   出願人：古河電気工業株式会社
• 特開昭61-284704