永久磁石の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：奥田誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-360254
公開番号（公開出願番号）：特開2007-165607
出願日： 2005年12月14日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：

【課題】均質で磁石特性に優れた永久磁石を提供する。【解決手段】本発明による永久磁石の製造方法は、R-T-B系合金を用意し、900°C以上1100°C以下の温度で1時間以上の間、保持する工程と、前記R-T-B系合金に水素を吸蔵させることにより、脆化させる水素処理工程と、脆化されたR-T-B系合金を粉砕し、平均粒径10μm以上100μm以下の粉末を形成する微粉砕工程と、前記粉末を溶射することによってNd2Fe14B化合物を主相とする膜状永久磁石を形成するプラズマ溶射工程とを含む。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

R-T-B系合金(Rは、イットリウムを含む希土類元素の少なくとも一種であり、NdまたはPrのいずれか一方を必ず含み、Tは、Fe、またはFeの50%以下を他の遷移金属元素で置換したものである)を用意し、900°C以上1100°C以下の温度で1時間以上の間、保持する工程と、前記R-T-B系合金に水素を吸蔵させることにより、脆化させる水素処理工程と、脆化したR-T-B系合金を粉砕し、平均粒径10μm以上100μm以下の粉末を形成する微粉砕工程と、前記粉末を溶射することによってR-T-B系合金の膜を形成するプラズマ溶射工程と、を含む永久磁石の製造方法。

IPC (9件)：

H01F 10/14 , H01F 1/053 , H01F 41/16 , B22F 9/04 , C22C 38/00 , C22C 33/02 , C23C 4/04 , C23C 4/12 , H01F 1/06

FI (9件)：

H01F10/14 , H01F1/04 H , H01F41/16 , B22F9/04 E , C22C38/00 303D , C22C33/02 H , C23C4/04 , C23C4/12 , H01F1/06 A

Fターム (28件)：

4K017AA04 , 4K017BA06 , 4K017BB12 , 4K017CA07 , 4K017DA04 , 4K017EA03 , 4K017EA09 , 4K017FB02 , 4K018AA27 , 4K018BA18 , 4K018BB04 , 4K018BC02 , 4K018BC08 , 4K018HA08 , 4K018KA45 , 4K031CB21 , 4K031CB31 , 4K031CB36 , 4K031CB44 , 4K031DA04 , 4K031EA10 , 4K031EA11 , 5E040AA04 , 5E040CA01 , 5E040NN01 , 5E040NN18 , 5E049AA01 , 5E049BA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

永久磁石薄膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-044175 出願人：住友特殊金属株式会社

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