整流ベント

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：龍華明裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-552627
公開番号（公開出願番号）：特表2004-522487
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】CPAPシステムの制御アルゴリズムの動作パラメータにより適合するようにマスクの通気特性を変えることができるベントを構成して作製することができるマスクを提供すること。【解決手段】加圧されたガス供給源からの流れを整える整流ベント10は、ガス供給管に係合するように適合された固定部14と、ヒンジ16によって固定部に接続されており、加圧ガス供給源に流れが接続されているばね力によって付勢された可動部12とを備えている。固定部はガス流開口部20を有している。可動部は、1)特定の最小動作圧で、可動部がばね力によって固定部から離れる方向にある位置へ回動されて可動部とガス流開口部との間に第一のガス流面積を確立するリラックス位置と、2)特定の最大動作圧で、加圧されたガスがばね力を相殺して可動部を固定部に隣接する位置へと回動させて、可動部とガス流開口部との間に最小のガス流面積を確立する完全に加圧された位置との間で回動可能である。可動部および固定部の一方あるいは両方の特性を変更することによって、ベントの流れの特性を圧力動作範囲内のいかなる圧力レベルにおいても変更することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

加圧されたガスの供給源からの流れを整える整流ベントであって、ガス供給管に係合するように適合された固定部と、前記加圧ガス供給源に流れが接続されているばね力によって付勢された可動部と、前記可動部を前記固定部に回動可能に接続するヒンジとを備えており、前記固定部はガス流開口部を有しており、前記可動部は1)リラックス位置と2)完全に加圧された位置との間を回動可能であり、前記1)リラックス位置は、特定の最小動作圧で、前記可動部が前記固定部から離れた位置に前記ばね力によって回動されて前記可動部と前記ガス流開口部との間に第一のガス流面積を確立する位置であり、前記2)完全に加圧された位置は、特定の動作圧で前記加圧されたガスが前記ばね力を相殺して前記可動部を前記固定部に隣接する位置に回動させ、それにより前記可動部と前記ガス流開口部との間に最小ガス流面積を確立する位置であることを特徴とする、整流ベント。

IPC (1件)：

A61M16/20

FI (1件)：

A61M16/20 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

吸息率制御器を備えた吸入装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-506842 出願人：フアイソンズ・ピーエルシー
特開平2-223822

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