特許
J-GLOBAL ID:200903045107043348

光ディスクの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-356778
公開番号(公開出願番号):特開平5-182252
出願日: 1991年12月26日
公開日(公表日): 1993年07月23日
要約:
【要約】【構成】 光ディスクを製造するに際し、記録部形成直前及び/又は保護膜形成直前にディスクに対して高圧ガスブローを行う。【効果】 ダスト等の混入がなく、ダスト等が原因となって生じるピンホール,酸化や腐食が生じない初期特性,耐食性に優れた光ディスクが製造できる。
請求項(抜粋):
基板上に少なくとも記録膜よりなる記録部と保護膜を順次形成して光ディスクを製造するに際し、記録部形成直前及び/又は保護膜形成直前にディスクに対して高圧ガスによりブローを行うことを特徴とする光ディスクの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る