特許
J-GLOBAL ID:200903045107043348
光ディスクの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-356778
公開番号(公開出願番号):特開平5-182252
出願日: 1991年12月26日
公開日(公表日): 1993年07月23日
要約:
【要約】【構成】 光ディスクを製造するに際し、記録部形成直前及び/又は保護膜形成直前にディスクに対して高圧ガスブローを行う。【効果】 ダスト等の混入がなく、ダスト等が原因となって生じるピンホール,酸化や腐食が生じない初期特性,耐食性に優れた光ディスクが製造できる。
請求項(抜粋):
基板上に少なくとも記録膜よりなる記録部と保護膜を順次形成して光ディスクを製造するに際し、記録部形成直前及び/又は保護膜形成直前にディスクに対して高圧ガスによりブローを行うことを特徴とする光ディスクの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (7件)
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特開昭60-167147
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特開平3-296936
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光デイスク用基板の表面に付着した塵や埃の除去方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-154564
出願人:大日本インキ化学工業株式会社, 日本鋼管株式会社
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特開昭61-113150
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光デイスク基板の冷却装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-301148
出願人:株式会社リコー
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特開昭60-167147
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特開昭61-113150
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