特許

J-GLOBAL ID：200903045111432200

光学表面の汚染除去を行う方法及び装置

発明者： イェンス リューデッケ ,  クリストフ ツァツェック ,  アレキサンドラ パツィディス ,  イェンス ウルマン ,  アネッテ ミュールプフォルト ,  ミヒャエル ティアー ,  シュテファン ヴィースナー
出願人/特許権者： カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-574345
公開番号（公開出願番号）：特表2005-519738
出願日： 2003年03月11日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】 ビームガイド光学系、特に、約157nm以下の波長で放出される遠紫外線レーザのビームを案内する光学系の表面の汚染除去を行い、妨害汚染物質、さらには広い面積にわたって分布する汚染物質が付着した表面の汚染除去を比較的わずかな労力で確実に行う方法及び装置を提供する。【解決手段】 光学表面の汚染除去を行う方法及び装置、とくにクレンジング雰囲気内で紫外線を用いてビームガイド光学機器の表面の汚染除去を行う方法及び装置が開示されている。本発明によれば、使用される紫外線の波長は、酸素が強く吸収する範囲内に入り、クレンジング雰囲気は、空気より低い酸素濃度を有する。たとえば、マイクロリソグラフィック投影露光系のビームガイド光学機器の表面のクリーニングに適用。

請求項（抜粋）：

ビームガイド光学機器の表面、特にマイクロリソグラフィック投影露光系の光学素子の表面の汚染除去を行うために、 クレンジング雰囲気内でクリーニングすべき表面に紫外線を照射する方法であって、 クリーニングに用いられる紫外線の波長は、酸素が強く吸収するスペクトル範囲内に入り、前記クレンジング雰囲気は、空気より低い酸素濃度を有する、 ことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

B08B7/00 ,  H01L21/027

FI (2件)：

B08B7/00 ,  H01L21/30 503G

Fターム (5件)：

3B116AA46 ,  3B116AB01 ,  3B116BC01 ,  5F046AA17 ,  5F046CB27

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ドイツ特許出願DE19830438A1
  
• キセノン照射装置とそれを用いた物体表面改質装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-101608   出願人：ウシオ電機株式会社