特許

J-GLOBAL ID：200903045150743701

蒸着マスクの作製方法および蒸着マスク

発明者： 長崎 英夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-238894
公開番号（公開出願番号）：特開2009-068082
出願日： 2007年09月14日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】設計目標通りの位置精度および寸法精度で薄膜に開口パターンが設けられた蒸着マスクを得ることが可能な蒸着マスクの作製方法を提供する【解決手段】設計値に基づいて薄膜10に開口パターン10aが設けられたマスク薄膜1を形成する。開口パターン10aの寸法および位置を検知する。検知した値と設計値とのずれ量だけ、レーザ光hr照射によって開口パターン10a周縁の薄膜10部分を除去する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

設計値に基づいて薄膜に開口パターンが設けられたマスク薄膜を形成する第1工程と、 前記開口パターンの寸法および位置を検知する第2工程と、 前記検知した値と前記設計値とのずれ量だけ、レーザ光照射によって前記開口パターン周縁の前記薄膜部分を除去する第3工程とを行う ことを特徴とする蒸着マスクの作製方法。

IPC (4件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/04

FI (4件)：

C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/04 A

Fターム (11件)：

3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG00 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 多面取り用メタルマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-048173   出願人：東北パイオニア株式会社