特許
J-GLOBAL ID:200903045165077732
レーザー光書込材料、その形成材及び表示体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-327147
公開番号(公開出願番号):特開2003-127540
出願日: 2001年10月25日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】レーザー光の照射でコントラストに優れるパターンを形成できて、耐熱性、耐候性に優れる表示体を形成できるレーザー光書込材料の開発。【解決手段】レーザー光の照射で変色するチタン含有化合物を二酸化珪素にて定着してなり、レーザー光を照射して変色部を形成し、それを大気中で600°C、30分間の暴露を行った場合に、前記変色部と非変色部とのコントラストが0.60以上であるレーザー光書込材料、当該チタン含有化合物とMQレジンを少なくとも用いた混合物からなる前記レーザー光書込材料の形成材及び前記レーザー光書込材料にレーザー光を照射して変色部を形成してなる表示体。【効果】レーザー光の照射でチタン含有化合物を効率よく変色させて、レーザー光の照射軌跡に基づくコントラストに優れるパターンないし情報を形成できる。
請求項(抜粋):
レーザー光の照射で変色するチタン含有化合物を二酸化珪素にて定着してなり、レーザー光を照射して変色部を形成し、それを大気中で600°C、30分間の暴露を行った場合に、前記変色部と非変色部とのコントラストが0.60以上であることを特徴とするレーザー光書込材料。
Fターム (3件):
2H111HA14
, 2H111HA23
, 2H111HA32
引用特許:
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